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本文本论文利用哈尔滨工业大学空间材料与环境工程实验室的空间综合辐照环境模拟设备对空间EUV太阳望远镜实际使用的Al薄膜滤光片和Mo/Si多层膜反射镜进行模拟辐照,以透射电子显微镜(TEM)为主要分析手段,对质子束辐照后实验样品材料内部形成的缺陷进行观察和分析,研究质子辐照诱发的辐照效应对光学材料微观结构的作用,总结和建立缺陷簇的形成和演化规律以及与材料光学和力学性能之间的关系,为揭示辐照条件下材料辐照损伤机制以及改善材料的抗辐照性能提供必要的理论储备。TEM分析表明,质子辐照能够在Al薄膜中诱发空位位错圈的现象,并且发现在实验范围内,随辐照剂量增加,位错圈数量密度增加,样品中空位簇缺陷的平均尺寸也在增加,空位倾向于形成较大的空位簇缺陷。同时在具有纳米晶粒的Al滤光片中发现经质子辐照后在团簇边界处形成大量的环状孔洞,正是这些孔洞的形成使Al滤光片透过率峰值由辐照前的12.1%增加到辐照后的15.0%,导致滤光片光学性能和力学性能衰退。对在不同能量和剂量的质子辐照下的Mo/Si多层膜反射镜样品辐照前后表面粗糙度的测量表明,辐照后Mo/Si多层膜反射镜的表面粗糙度比辐照前明显增加。表面粗糙度的增加使散射光线能量逐渐增大从而最终导致反射率的降低。通过对辐照前后Mo/Si多层膜的微观结构进行观察和分析,发现经质子辐照后Mo/Si多层膜结构仍陈现周期性变化,但结构的同一性遭到破坏；辐照后Mo/Si多层膜层与层之间的界面比辐照前更为粗糙；于此同时我们还发现辐照后Mo/Si多层膜的层状结构发生了明显的扭曲现象。实验结果还表明,由于带电粒子的辐照损伤,质子辐照会使Mo/Si多层膜反射镜的反射率降低,且质子能量越低、剂量越大对多层膜的反射率影响越明显。这主要是因为辐照能量越低质子在材料中的射程就越短,那么质子在多层膜材料中沉积的浓度也越大,对表面膜层的损伤则更为显著。