高NA光学系统偏振像差研究

来源 :中国科学院大学(中国科学院光电技术研究所) | 被引量 : 0次 | 上传用户：xiaobenben

【摘要】

：

高NA光学系统一般指的是高NA投影光刻物镜。高NA投影光刻物镜是光刻机的核心组成部分,其成像质量的好坏决定着最终的光刻性能。偏振像差会对高NA光学投影光刻物镜成像产生影响,比如降低成像对比度。为了提高高NA光学投影光刻物镜的成像质量,除了控制波像差外,还需要优化光学系统的偏振像差。研究高NA光学系统的偏振像差对发展光学投影光刻技术有重要意义。本文以NA1.35投影光刻物镜为例,系统地介绍了光学系统

【作者】

：

李杰

【出处】

：

中国科学院大学(中国科学院光电技术研究所)

【发表日期】

：

2019年01期

【关键词】

：

投影光刻偏振像差薄膜光学膜系设计

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