化学发光分析法在痕量分析中具有灵敏度高，分析速度快，操作方便等诸多优点，广泛地应用于环境监测、临床医学、药物分析和食物工程等众多领域。然而，由于选择性太差，该方法在复杂样品分析中的应用受到限制。因此，提高化学发光分析的选择性应是化学发光分析研究中一项迫切的、十分有意义的工作。分子印迹技术是近年来出现的一种对目标分子具有预定选择性识别的技术。由于分子印迹聚合物中含有和目标分子高度互补的空腔结构，于是表现出惊人的专一识别性。将分子印迹技术与化学发光分析法结合，利用分子印迹聚合物对目标分子的特异性识别和捕获能力，从而与样品中的共存物质分离，解决了化学发光选择性差的问题。本论文结合化学发光反应和流动注射技术，建立了测定药物中痕量组分的高选择性分子印迹-化学发光分析方法，并对各实验条件进行优化，主要进行如下几方面的研究工作：1、利用逐步聚合法，以还原性谷胱甘肽(GSH)为模板分子，聚乙二醇为致孔剂，二乙烯三胺作为固化剂与环氧树脂聚合，制备了新型的GSH分子印迹聚合物整体柱，并将其连接在流动式化学发光分析系统中，利用高锰酸钾-甲醛-GSH化学发光体系，建立了测定GSH的分子印迹-化学发光分析法。该方法的线性范围为5×10-6~1×10-3mol/L，检出限为1×10-6mol/L。该方法应用于阿拓莫兰片中GSH含量的测定，结果令人满意。2、以原儿茶酸(DHBA)为目标分子，合成对DHBA分子有高选择性的分子印迹聚合物，并以此聚合物为分子识别物质，结合流动注射分析技术，选择高锰酸钾-DHBA-甲醛化学发光体系，建立了测定DHBA的分子印迹-化学发光分析方法。该方法的线性范围为5.0×10-6~1.0×10-4mol/L，检出限为3.7×10-7mol/L。相对标准偏差为2.9%(n=11, C=5×10-4mol/L)。3、利用KMnO4-HCHO-8-羟基喹啉-5-磺酸化学发光体系，建立了具有高选择性测定8-羟基喹啉-5-磺酸的流动注射-化学发光分析方法。在该体系下的方法的线性范围为5×10-6mol/L~1×10-4mol/L，检出限为4.3×10-7mol/L，相对标准偏差为3.6%(n=11, C=7×10-5mol/L)。