氧化铜及掺铟氧化铜薄膜的磁控溅射制备及研究

来源 :郑州大学 | 被引量 : 0次 | 上传用户：liyunlong1015

【摘要】

：

氧化铜作为环保、无毒、廉价的直接带隙半导体材料,在诸多领域尤其太阳能电池领域有美好的应用前景。本研究采用直流磁控溅射法制备了氧化铜(CuO)及掺铟氧化铜(CuO:In)薄膜,并着重研究了氧氩比、衬底温度、溅射功率、反应气压等参数对薄膜微结构和光、电学性质的影响。此外,尝试制备了结构为Ag/PCBM/CH_3NH_3PbI_3/CuO/FTO的钙钛矿太阳能电池并测试其J-V特性。主要结果如下:(1)

【作者】

：

杜永利

【出处】

：

郑州大学

【发表日期】

：

2019年08期

【关键词】

：

CuO薄膜 CuO:In薄膜磁控溅射法微结构光学性质电学性质

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