原子层沉积法制备金属氧化物纳米材料及其性能研究

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【摘要】

：

原子层沉积(Atomic layer deposition, ALD)是一种先进的薄膜沉积技术,具有薄膜生长厚度在原子级别精确可控、台阶覆盖性极佳、重复性好等优点,因而在纳米材料制备、催化及储能等领域具有广泛的应用前景。本论文利用ALD技术在多孔纳米材料表面沉积了尺寸和组成可控的NiO和VOx纳米颗粒,并分别对其电化学储能和催化性能进行了研究,主要研究工作如下：1.NiO/多孔石墨烯(NG)复合材

【作者】

：

陈彩营

【机构】

：

太原理工大学

【发表日期】

：

2014年01期

【关键词】

：

原子层沉积氧化镍超级电容器氧化钒催化剂乙苯脱氢

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