光学窗是人们利用光电仪器在观测和探测物体时,用来传递信息的窗口。因此,需要光学窗在可见光波段具有高的透过率。同时,为了防止外界电磁波对仪器性能的影响以及内部仪器向外辐射电磁波,光学窗应还需要具有优异的电磁屏蔽性能。另一方面,在银行、机场等公开场合,用户在阅读显示器上信息时,希望保护显示的信息。针对上述存在的问题,本论文提出了一种具有窄视角功能的基于金属网栅的光学窗器件,并进行了理论与实验研究。主要内容如下:首先,结合紫外压印技术、纳米印刷技术以及选择性电铸技术,制作了复合Ag-Ni金属网栅,无需真空溅射过程,不仅省时还经济。用该方法制作的基于金属网格的透明电磁屏蔽窗具有优越的性能,如低方阻(Rs=0.07Ω/sq)、强电磁屏蔽性能(在X波段,屏蔽效能最高达到35dB)以及高透光率(在可见光波段,T>80%)。然后,利用LightTools仿真,基于正交实验思想,对视角受限光学窗的结构参数(周期、线宽和深度)与视角之间的关系进行了定性分析,并获得了一组优化的参数组合(周期为80μm、线宽为10μm和深度为70μm)。又通过多元线性回归分析方法,建立了视角受限光学窗的结构参数与视角之间的数值模型。之后,使用上述分析获得的参数组合,利用光刻的方法,制备了视角受限结构模具。最后,对视角受限结构的紫外压印问题进行了探索,由于视角受限结构具有高深宽比的特点,成功转印该结构比较困难。通过采用PDMS模具以及对PDMS表面进行等离子改性处理,解决了高深宽比结构在紫外压印中脱模困难和易产生气泡的问题。最终利用紫外压印技术和纳米印刷技术,成功制备了窄视角电磁屏蔽光学窗器件,在水平和垂直两个方向都能起到缩小视角的作用(可视角度为90度),同时,又有强电磁屏蔽性能。综上,本文提出的具有视角限制功能的基于金属网栅光学窗器件制作过程简单,且具有高的屏蔽效能和窄视角。