电致变色（electrochromic,EC）材料是当下众多研究者的研究热点。三氧化钼（MoO₃）在充当电致变色材料时,具有驱动电压小、资源储量大、色彩柔和和开路记忆长等优点。论文采用磁控溅射法制备了MoO₃基全固态互补型电致变色器件（all-solid-state complementary electrochromic device,ASSC-ECD）,先系统探究了ASSC-ECD五层功能膜层的制备和性能表征。所制器件的透明导电层的氧化铟锡（indium tin oxide,ITO）的方块电阻在13至36Ω/sq之间,可见光波段透过率在89%左右。电解质层的钽酸锂（Li Ta O₃）呈疏松多隙结构,离子传导率约为6.02×10^-4S/cm。离子存储层的氧化镍（Ni O_x）单膜在可见光波段褪色态透过率在95%上下,阶跃电压循环100次后无明显衰减。重点研究了MoO₃层的溅射压强、加镀三氧化钨（WO₃）薄层、掺入WO₃等制备工艺对具有ITO/Ni O_x/Li Ta O₃/MoO₃/ITO结构的ASSC-ECD整个性能的影响,通过物相、形貌、光学特性、光学调制范围、变色响应时间和循环稳定性等定性或定量的指标进行详细的表征,并结合材料特性和物理机制进行了深入的分析。各种制备工艺优化后,综合性能最佳的ASSC-ECD的光学调制范围、着色响应时间和褪色响应时间分别为58.8%、7 s和6 s;可阻挡大部分紫外线,对可见光波段的透过率调制能力强,光学特性良好;循环稳定性优良,在80次阶跃电压循环下无明显衰减。