综合孔径微波辐射计是一种以硬件复杂度和信号处理复杂度的提高为代价，换取高分辨率的一种新型干涉式阵列微波辐射成像系统。但同时，这些复杂度的提升给成像系统带来了种类繁多的误差，这些误差会对成像结果产生严重的影响。因此，误差分析与校正是获取高质量反演图像的关键技术与难点。目前，国内外针对综合孔径辐射计的误差分析与校正已有诸多研究，但是针对天线位置误差的分析却很少见诸报道，也没有针对天线位置误差的特定校正方法。本文着重研究了综合孔径微波辐射计天线位置误差的数学模型并讨论了适合该误差的校正方法。论文首先全面介绍了综合孔径微波辐射计及其误差分析与校正的研究概况，并详细介绍了综合孔径微波辐射成像原理，推导了系统的复相关输出——可见度函数的表达式。然后在可见度函数的基础上，推导了天线位置误差对可见度函数以及系统灵敏度的影响。并以一种交错Y形阵为例对天线位置误差进行了定量的分析，将天线位置误差分成了面内误差和离面误差两类，分别研究了两者对整个系统的不同影响结果。最后针对不同的阵列形式，采用了不同的校正方法对其进行了校正仿真，分别是针对一维阵列的基于最大似然准则的天线误差校正方法和针对二维阵列的单外部辅助源校正方法。仿真结果表明了各种方法的有效性和局限性。