本论文主要研究以聚酰亚胺薄膜为原料制备碳材料，通过层压、碳化等工艺，制备出表面光洁、完整的碳膜。通过元素分析、TG、DSC、红外、XRD、材料万能实验机、SEM、激光法导热分析仪LFA 447Nanoflash等，对碳膜结构和性能进行了研究，得出了规律性的结论。 制备工艺的研究结果表明：碳化压力和速率是影响制品表观和性能的决定性因素。过高的压力和过快的碳化速率易使制品出现裂纹、空洞现象。制备理想的样品，须在适当的压力下首先将薄膜层压成型，然后在一定的压力和碳化速率下进行碳化。 碳化温度影响碳膜的结构与性能：温度达到600℃时薄膜脱氧，材料开始向晶体结构转变，此时材料力学性能出现明显增强现象；材料700℃时逐渐衍生出类石墨结构，对应电性能发生突变，导电性显著提高。结合IR和元素分析明确薄膜700℃之后产生杂环的合并，脱除残留的氮氧，形成连续巨大的芳杂环多环化合物，温度持续升高，稠环芳构化，类石墨结构的六角碳网层面逐渐生长，这与材料电性能和力学性能700℃以后逐渐增大相一致。 石墨化处理到2300℃和2800℃，材料晶格参数及电阻率和导热系数存在较大差异：2300℃石墨化后Lc为3nm、石墨化度15％；2800℃石