本文主要从抛光机理出发，阐明了各抛光参数与抛光效率及精度的关系，提出了切实可行的控制方法，并实现了产品化。抛光机是最精密的工作母机，周围诸多因素直接或间接的影响着抛光效果，本文主要就抛光盘运行、抛光液温度、抛光盘平面修整三个方面的硬件关键技术及控制技术作了详细的描述。抛光盘运行主要采用了基于规则的控制方法，实现了缓速上升-稳定运行-缓速下降-精确定位的控制模式以及小于5‰的转速稳定度，小于0.4°的定位精度，2-120rpm的转速范围。抛光液温度控制主要采用了基于知识的具有自学习功能的智能控制方法，达到了小于±0.3℃的抛光液温度稳定度。从电火花加工机理出发，描述了抛光盘平面度修整的方法，并研制了一种适用于电火花修整的专用脉冲电源，实现了精微修整过程中电极的微小模糊进给。考虑了抛光整机的电磁兼容性、可靠性设计。最后以水晶加工为例，详细说明了整个抛光过程，从talystep测量数据来分析，采用自行研制的抛光机，完全能获得水晶的超平滑表面，最大表面粗糙度值介于1～2nm之间波动(理想状态时可获得0.2nm以下的表面粗糙度)。同时抛光效率和产品质量的一致性也得到大幅提高。