由于超精密研磨抛光设备是硅晶片获得超平滑无损伤表面的主要手段,所以双面抛光加工设备的研制受到了超精密加工研究领域和光电子材料生产加工企业的广泛关注与重视,并取得了丰硕的成果。影响抛光精度的一个主要因素是抛光压力,双面抛光机电气智能控制系统要求精确的控制工件上的抛光压力,从而保证了晶片抛光质量的可靠性。影响抛光精度的另一个因素是抛光液的恒温控制系统,保持抛光液的恒温状态能使工件表面达到最佳的加工效果本文针对双面抛光机电气控制系统的整体要求,对控制系统的总体功能和总体方案进行了设计,开发了基于PLC控制的具有人机一体化界面的双面抛光机的控制系统,包括电气控制系统的硬件电路设计、PLC软件设计的主要程序进行了详细的阐述。为了实现系统的高精度和高可靠性要求,开发和设计了一个抛光液恒温控制与过滤装置,在新研制的超精密双面抛光机上实行抛光液的恒温控制功能,实现了晶片的高效率、超平滑表面加工。