目的:1、评价自酸蚀粘结剂XenoⅢ在不同的涂擦方式下对离体牙牙本质通透性的影响。2、评价自酸蚀粘结剂XenoⅢ和半导体激光联合应用对离体牙牙本质通透性的影响。3、评价自酸蚀粘结剂XenoⅢ与半导体激光联合应用治疗牙本质过敏症的临床疗效。方法:一不同涂擦方式下自酸蚀粘结剂XenoⅢ对离体牙牙本质通透性影响的研究将(牙合)面处理过的离体牙随机均分为5组,用不同的涂擦方式(方向、力度)将自酸蚀粘结剂XenoⅢ涂擦于处理过的离体牙(牙合)面。暴露处理面,其余部分封闭,将离体牙浸泡于2%的亚甲蓝溶液中6小时,然后剖开离体牙,根管显微镜下测量染料渗入深度。最后将各组测量结果进行统计学分析。二自酸蚀粘结剂XenoⅢ与半导体激光联合应用对离体牙牙本质通透性影响的研究将(牙合)面处理过的离体牙随机均分为6组,其中第一组、第二组、第三组分别用自酸蚀粘结剂、激光及自酸蚀粘结剂与激光联合处理(牙合)面,第四组、第五组、第六组分别用自酸蚀粘结剂、激光及自酸蚀粘结剂与激光联合处理(牙合)面后再用牙刷刷(牙合)面300次,接着封闭6组离体牙其余部分,使用亚甲基蓝溶液浸泡离体牙6小时,最后纵向剖开离体牙,根管显微镜下测量染料渗入牙本质的深度。将6组测量结果进行统计学分析。三自酸蚀粘结剂XenoⅢ与半导体激光联合应用治疗临床牙本质过敏症疗效的研究选取牙本质过敏症病例15例共40颗患牙,分为3组,分别使用自酸蚀粘结剂、激光及两者联合应用脱敏治疗。用数字化疼痛评判法综合评价患者的患牙敏感程度。然后分别计算出各组即刻与治疗前的疼痛差值D1以及3月时与治疗前的疼痛差值D2,进行统计学分析。结果:1、涂布自酸蚀粘结剂的各组均与空白对照组有统计学差异(P＜0.05),同向轻涂组与其余涂布自酸蚀粘结剂组有统计学差异(P＜0.05)。2、第一组、第二组、第三组有统计学差异(P＜0.05),第四组、第五组、第六组有统计学差异(P＜0.05)。3、自酸蚀粘结剂组的D1、激光组的D1、自酸蚀粘结剂与激光联合应用组的D1之间有统计学差异(P＜0.05),自酸蚀粘结剂组的D2、激光组的D2、自酸蚀粘结剂与激光联合应用组的D2之间有统计学差异(P＜0.05)。结论:1、离体牙实验显示同向轻涂自酸蚀粘结剂XenoⅢ时离体牙牙本质的通透性最低。2、离体牙实验显示自酸蚀粘结剂XenoⅢ与激光联合应用较单独使用自酸蚀粘接或半导体激光能更好的降低离体牙牙本质通透性。3、临床实验显示自酸蚀粘结剂XenoⅢ与激光联合应用比单独使用自酸蚀粘结剂或激光对牙本质过敏症有更好的临床疗效。