NdFeB表面NiP/TiO复合膜形成与耐蚀性研究及废液中Ni去除

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NdFeB永磁体具有优异的磁性能,相对低廉的价格,丰富的原料来源,被广泛应用于电子、仪表等工业领域,但NdFeB的化学稳定性差,在日常使用条件下容易发生氧化,当处于湿热的气氛中时会发生严重的电化学腐蚀,严重阻碍了它的应用。本论文针对这一问题,在其表面形成NiP/TiO<,2>复合膜,研究了复合膜对NdFeB永磁体防腐蚀性能。化学镀镍老化液中含有较高浓度重金属Ni污染物,本研究还开展了老化液中Ni的去除。 本研究确定了化学镀的前处理工艺,利用正交试验优化了化学镀NiP的工艺,初步研究了NiP/TiO<,2>复合膜的制备。利用电化学方法研究了NiP镀层和NiP/TiO<,2>复合膜的耐蚀性能,通过XRD和SEM-EDS表征NiP镀层和NiP/TiO<,2>复合膜的结构和表观形貌,XRD表明NiP镀层和NiP/TiO<,2>复合膜是非晶态,SEM-EDS表明NiP镀层和NiP/TiO<,2>复合膜结构致密、化学组分均匀。 针对化学镀老化液中Ni<2+>是以络合态存在的特点,用化学氧化法破坏络合体系,然后用化学沉淀法去除Ni<2+>,去除率达95%,但是废液中Ni<2+>含量仍然很高,继续利用实验室自制的树脂进行离子交换进一步去除,最终使Ni<2+>的浓度由2.1 g/L降低到20 mg/L以下。 本研究课题下一步需解决的问题是:进一步完善NiP/TiO<,2>复合膜的制备工艺,进一步提高复合膜的耐蚀性;研发老化液中的Ni<2+>回收利用的新型实用技术。
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