射频磁控溅射法制备ZrW<,2>O<,8>、Al<,2>O<,3>及其复合薄膜的研究

被引量 : 2次 | 上传用户：zhuzi1976

【摘要】

：

负热膨胀(Negative Thermal Expansion简称NTE)材料研究是材料科学中近年来新兴的学科分支，其中ZrW_2O_8以负热膨胀系数大(-9×10~(-6)K~(-1))、各向同性且响应温度范围宽(0.3K-1050K)等特点而备受关注。它在电子学、光学、通信、医学、日常生活等方面具有巨大的潜在应用价值。目前国际上研究较多的是ZrW_2O_8粉体及与其粉体复合材料，对ZrW_2O

【作者】

：

刘红飞

【机构】

：

江苏大学

【发表日期】

：

2007年05期

【关键词】

：

负热膨胀 ZrW2O8 Al2O3 ZrW2O8/Al2O3 薄膜射频磁控溅射法

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