射频磁控溅射法相关论文
本文通过采用射频磁控溅射法制备Mg掺杂Ga_2O_3薄膜,并研究双靶交替溅射和混合靶材直接溅射两种掺杂方式对薄膜性质的影响;之后选......
二氧化钛(Ti02)作为典型的宽禁带半导体,在光、电和磁学等领域均具有广阔的应用前景。然而,本征Ti02的太阳光利用率、电导率和迁移......
为了满足规模化工业生产需求,综合性能优异的硬质涂层具有非常重要的应用价值。TiN、TiCN、TiSiN、TiAlN和TiAlCN涂层已经大量研究......
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透明导电薄膜一被广泛运用在日常的光电产品——太阳能电池透明电极、液晶显示、触摸控制显示器、抗辐射线高透光保护镜及汽车前窗......
采用射频磁控溅射法,以铌靶和硅靶为靶材,在玻璃基片上沉积了NbSiN薄膜。研究了硅靶、铌靶功率、氮气流量以及溅射时间对薄膜光学......
本文用射频磁控溅射法制备了CeO2-x高温氧敏薄膜。利用X射线光电子能谱（XPS）研究了不同处理条件对CeO2-x薄膜电子组态的影响，特别是对......
由磁控溅射法制备的氢化非晶硅薄膜具有宽司的电学、光学、光电和微结构特性.而且微结构变化对于电导率是灵敏的.特别是薄膜的暗电......
用化学共沉淀法制备了氧化锌铝粉末,用冷等静压+常压烧结法制备了相对密度为96.7％的氧化锌铝溅射靶材,并用射频磁控溅射法在玻璃基......
随着互联网的大众化普及，全光网络的发展应时代需求而出现。在全光网络中，光开关是一个重要的部分。与其他光开关相比，磁光开关具有速......
近些年来,我国经济发展突飞猛涨并一直保持强劲的增长势头,但化石燃料的大量使用也产生了严重的环境问题,温室效应、雾霾已经严重......
钒氧化物由于具备热致相变等特殊性能得到研究者的广泛关注,并在光电元件、润滑、传感器、多相催化等领域得到应用,目前应用微结构......
ZnO薄膜在c轴方向具有较低有效介电常数、较高机电耦合系数，但是声表面波波速较低;AlN薄膜虽然具有较高的声表面波速，但是介电常数和......
本论文利用射频磁控溅射的方法分别制备了Fe-Ca、Fe-Ba、Ba-Ca三个系列的单掺及其共掺的LiNbO3薄膜。利用XRD、XPS、XAFS、SQUID、......
负热膨胀(Negative Thermal Expansion简称NTE)材料研究是材料科学中近年来新兴的学科分支，其中ZrW_2O_8以负热膨胀系数大(-9×10~(......
在材料科学的各个分支中，薄膜材料科学的发展一直占据了极为重要的地位。TiO_2，ZnO薄膜具有优良的介电、压电、气敏和光催化等功能，在......
TiO2作为一种性能优良的半导体材料,化学性质稳定,无毒性,取料广泛,制造成本低廉,在光催化、太阳能电池、太阳能光解水制备氢气及......
TiO2是n型金属氧化物半导体,是一种重要的无机功能材料,可用于制作电介质材料、光催化薄膜、减反射涂层、气敏传感器等。TiO2薄膜......
近年来随着建筑节能的需求,低辐射玻璃(Low-E玻璃)在商业住宅和居民住宅中的应用逐渐增多。Low-E玻璃具有良好的光谱选择性,即可见......
透明导电氧化物薄膜是一种重要的光电子信息材料,因其具有可见光区高透过率、红外区高反射率和较低的电阻率,在薄膜太阳能电池、平......
锆钛酸铅(Pb(Zr_xTi_(1-x))O_3,简写为PZT)薄膜是一种极具发展前景的电子功能薄膜,它具有剩余极化大、介电常数大、使用温度范围广......
钴铁氧体(CoFe2O4)薄膜作为一种高密度的磁记录介质,其具有较高的矫顽力和垂直各向异性,较好的化学稳定性以及耐磨损性。本论文主......
近年来,铁电薄膜材料的制备、结构、性能和应用已经成为国际上新型材料研究的一个热点。铁电薄膜材料的铁电性质及其在存储器方面......
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低辐射玻璃具有很高的可见光透过率和远红外反射率，既能保证室内的采光要求又有很好的节能效果。随着低辐射玻璃在建筑物中的广泛应......
铁电薄膜及其在非挥发性铁电存储器（ferroelectric random access memory,简称FRAM）领域的应用是近年来国内外研究的热点。本研究分......
电子器件的发展逐渐趋向柔性化,使得对柔性透明导电薄膜的需求日益迫切。ZnO作为一种新型宽禁带半导体,具有可见光透明、室温沉积......
磁控溅射法制备BCN薄膜具有沉积速率高、成膜质量好等特点,尤其是成膜温度低,不影响基材的性能,所以很适用于金属表面改性。本文主......
白光二极管照明作为最有发展潜力的新型光源,具有广阔的市场和应用前景,并取得了飞速的发展。但由于商用的InGaN/YAG:Ce3+白光LED......
多铁材料是指在一定温度范围内表现出铁电性(反)、铁磁性(反)以及铁弹性中一种以上性能的材料。此类材料在铁电器件、磁性方面和磁......
透明导电氧化物（TCO）薄膜以其高的透光率和低的电阻率，被广泛应用于太阳能电池、平板显示、特殊功能窗口以及其他光电器件领域。其中，......
随着电子工业，通讯技术的迅速发展和电子设备的不断小型化，电子元器件也趋于微型化，这就要求磁器件向小型化和高频化方向发展，具有高饱......
化合物薄膜太阳电池具有效率高、体积小、成本低廉等优点,是未来太阳电池发展的重要方向之一,但是现有的制备工艺和非环境友好材质......
上转换发光是一种反斯托克斯发光，目前已被广泛应用于光纤通信、数据存储等光学器件，同时也可以应用于固态激光器和太阳能电池等领域......
CuCrO2是一种P型铜铁矿结构的半导体氧化物,具有较高的可见光透过性和导电性,其禁带宽度是3.2eV。CuCrO2薄膜可以应用于光电材料的......
NiZn铁氧体薄膜具有电阻率高、居里温度高、温度系数低、高频性能良好等优点,广泛应用于平面电感器、微型变压器、电磁干扰抑制器......
本文采用射频磁控溅射法，以ZnO和Eu2O3混合物作为溅射靶材，Ar气为工作气体，O_2气为反应气体，在硅（Si）衬底和蓝宝石（Al_2O_3）衬底上制备ZnO:......
透明导电氧化物材料的发现给半导体材料领域带来了更加广阔的发展空间，满足了现在很多新兴电子产品对材料的严格要求。随着研究的进......
以Ar和CHF3为源气体,结晶SiC陶瓷靶为靶材,通过射频磁控溅射法,在不同的射频输入功率下,在双面抛光的316L不锈钢基底上沉积了系列S......
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ZnO为直接带隙的宽禁带半导体材料,室温下禁带宽度为3.37eV,且激子束缚能高达60meV,比室温热离化能26meV大很多。因此,与ZnSe(22me......
ZnO是一种重要的宽禁带半导体材料，室温下的禁带宽度为3.37eV，激子束缚能为60meV，在光电子器件和自旋电子器件领域有着广泛的应用前景......
透明导电氧化物薄膜(TCO)是一种广泛应用的光电薄膜，其中SnO2掺In(ITO)薄膜制备工艺成熟，已在工业生产中获得大范围应用。氧化锌掺铝......
采用射频磁控溅射法在无压烧结SiC陶瓷基片上沉积了无定形Si-C-O-N涂层。利用FESEM观察了涂层的表面形貌,结果显示:随着溅射功率的......
采用射频磁控溅射法制备了用于非致冷红外焦平面阵列的(Ba0.7Sr0.3)TiO3(BST)铁电薄膜.研究了BST铁电薄膜的制备工艺,分析了BST铁......
常温下 ,采用射频磁控溅射法在有机的柔性衬底上制备出了SnO2 :Sb透明导电膜 ,并对薄膜的结构和光电性质进行了研究 .制备的样品为......
利用射频磁控溅射法制备了单带差超晶格中ZnS薄膜. 通过XRD和AFM的观察,对其结构进行了研究,并确定了制备均匀致密的多晶ZnS薄膜的......
在室温和不同功率下,用射频磁控溅射法在玻璃衬底上制备了CdS薄膜.运用探针式台阶仪、x射线衍射分析仪、紫外可见分光光度计、扫描......
纳米表面材料的研究、开发与应用是整个纳米材料研究的一个战略制高点,已成为纳米材料研究与应用的重点方向,纳米涂层设备开发,有......
