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本文分别采用高温固相反应法、溶胶-凝胶法制备了Eu3+掺杂ZnAl2O4发光粉、Tb3+掺杂ZnAl2O4发光粉、Eu3+掺杂ZnAl2O4发光薄膜。采用扫描电子显微镜(SEM)、X射线粉末衍射(XRD)、荧光光谱等分析手段研究了发光粉和发光薄膜的形貌、晶体结构、光致发光性能。对于高温固相反应法和溶胶—凝胶法制备的Zn1-xAl2O4:xEu3+发光粉。XRD结果表明,Eu3+掺杂浓度分别低于1 at.%和5 at.%时,能够形成纯相的ZnAl2O4。适当提高烧结温度能够改善溶胶—凝胶法Zn0.97Al2O4:0.03Eu3+样品的结晶质量,促进晶体颗粒尺寸增大。荧光光谱检测结果表明,Zn1-xAl2O4:xEu3+发光粉的激发谱随着Eu3+掺杂浓度的改变而改变,高温固相法样品的激发谱由较强的电荷迁移带、基质吸收激发带和几个较弱的Eu3+的f-f本征激发峰组成,而溶胶—凝胶法样品的激发光谱由较强的电荷迁移带和几个较弱的Eu3+的f-f本征激发峰组成。溶胶—凝胶法制备样品为尺寸均匀的纳米颗粒,其发光强度普遍强于高温固相法样品。Zn1-xAl2O4:xEu3+的发射谱由常见的5D0—7FJ(J=0-4)跃迁发射构成;对于高温固相法样品,随着Eu3+掺杂浓度的提高,其发光强度也逐渐增强,当掺杂浓度达到0.5%时,出现浓度猝灭现象。对于高温固相反应法制备的Zn1-xAl2O4:xTb3+发光粉。XRD结果表明,Tb3+掺杂浓度不超过2 at.%时,能够形成纯相的ZnAl2O4。荧光光谱检测结果表明,Zn1-xAl2O4:xTb3+发光粉的激发谱随着Eu3+掺杂浓度的改变而改变,其激发谱由Tb3+的4f8-4f75d1跃迁和基质激发峰组成。Zn1-xAl2O4:xTb3+发光粉的发射光谱由常见的5D4—7FJ(J=6,5,4,3)跃迁发射构成,随着Tb3+掺杂浓度的提高,其发光强度也逐渐增强,当掺杂浓度达到2%时,出现浓度猝灭现象。采用溶胶-凝胶法制备了Zn0.98Al2O4:0.02Eu3+发光薄膜,研究了镀膜工艺条件对薄膜质量的影响。找到了较好的工艺参数,获得了纯相的Zn0.98Al2O4:0.02Eu3+发光薄膜,薄膜激发谱由较强的O2-—Eu3+电荷迁移带和几个较弱的Eu3+的f-f本征激发峰组成。其发射谱属于4f-4f发射跃迁(5D0-7FJ, J=04),其中5D0-7F2能级跃迁占主导。