本文对Ni<,x>Pd<,1-x>合金薄膜的结构与磁性进行了研究。主要内容如下： 1．利用分子束外延技术在GaAs(001)表而及在此基础上生长的Au、Cu缓冲层上外延生长了Ni-Pd合金的单晶薄膜，并利用反射高能电子衍射方法观察了单晶的结构。 2．合金的平均磁矩通过振动样品磁强计 (VSM)测量，发现GaAs(001)表面生长的系列薄膜(0.7≦x≦1)均呈铁磁性，Cu和Au缓冲层上生长的系列薄膜在x≧0.25时铁磁性出现，平均原子磁矩随Pd增多而减小，Ni原子的平均磁矩则随Pd增多而增大，显示合金中的Pd原子被Ni原子极化出自发磁矩，以至当磁矩数值平均到Ni原子上时会有所增大。 3．利用旋转磁场磁光克尔效应(RotMOKE)技术对样品的各向异性进行研究，结果显示GaAs(001)表面生长的Ni-Pd合金单晶薄膜既有单轴各向异性，也有四度各向异性。