氧化对CVD自支撑金刚石膜力学性能的影响

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【摘要】

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研究了CVD金刚石膜氧化行为与断裂强度的关系.试验结果表明:CVD金刚石膜随着高温氧化时间延长,其断裂强度不断下降;同样,随氧化温度的增高,断裂强度急剧降低.但在780℃氧化20

【作者】

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刘敬明唐伟忠吕反修

【机构】

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北京市电加工研究所,北京科技大学材料科学与工程学院

【出处】

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机械工程材料

【发表日期】

：

2004年3期

【关键词】

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CVD金刚石膜氧化断裂强度 CVD diamond film oxidation fracture strength

【基金项目】

：

国家高技术研究发展计划(863计划)

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研究了CVD金刚石膜氧化行为与断裂强度的关系.试验结果表明:CVD金刚石膜随着高温氧化时间延长,其断裂强度不断下降;同样,随氧化温度的增高,断裂强度急剧降低.但在780℃氧化20min以内,或在810℃氧化10min以内,对金刚石膜的强度没有明显的影响.晶界的优先氧化所造成材料连续性的降低是高温下导致金刚石膜强度降低的主要原因.

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