CVD金刚石膜相关论文
对化学气相沉积(CVD)多晶金刚石膜进行激光平整化的正交试验,使用场发射环境扫描电子显微镜(SEM)进行形貌分析,激光共聚焦扫描显微......
金刚石具有优异的机械性能、热力学性能、光学性能、声学性能、半导体性能及化学惰性,作为一种全方位的多功能材料,在诸多领域具有......
化学气相沉积法(Chemical Vapour Deposition,简称CVD)制备出的金刚石膜具有和天然金刚石相近的一系列独特性能,在航空、航天、国......
金刚石具有一系列独特的力学、热学、声学、电学、光学和化学性能，在高科技领域具有广阔的应用前景。未掺杂CVD金刚石膜是高度绝缘......
采用热丝辅助化学气相沉积(CVD)工艺制备出纳米、微米及细晶粒金刚石膜材料.观察了这三种金刚石膜的表面形貌并对上述金刚石膜的物......
本文重点对近年硬质合金基体表面预处理方法及其对CVD金刚石膜沉积的影响进行了综述。按其原理来分,预处理方法可分为物理预处理法......
研制成功国内第1台大面积CVD金刚石膜热铁板抛光机．它可以在10Pa真空条件下，加热到1 100℃；抛光台可以在0～10 r/min间实现无级调速，一次......
在气体循环条件下采用H2、CH4和Ar的混合气体,利用100kW直流电弧等离子喷射CVD系统,在850和950℃下在Mo衬底上沉积了不同厚度的金......
讨论了激光抛光金刚石膜机理、影响因素,分析了激光抛光金刚石膜理论模型、激光抛光后金刚石膜的粗糙度极限,提出要实现金刚石膜特......
YAG金刚石激光铲平切割机是针对宁夏机械研究院生产的CVD金刚石膜进行后加工的设备.文章介绍了金刚石膜激光铲平切割机的工作原理......
通过分析CVD金刚石膜的结构,对CVD金刚石膜的场发射机制进行了研究.结果表明金刚石膜内含有一定数量的石墨,当电子通过石墨时从石......
用电镜、激光ROMAN谱分析等手段研究工艺参数对CVD金刚石膜生长速率和生长质量的影响。结果显示：金刚石薄膜的生长速率随甲烷浓度、......
研究了一种快速有效地抛光CVD金刚石厚膜的技术.该技术是利用化学活性很强的稀土金属铈(Ce)与金刚石(碳)的固相化学反应,在一定的......
采用溶碳活性很高的稀土金属Ce和过渡金属Fe熔炼出Ce-7％Fe（原子分数，下同）合金，利用该合金对CVD金刚石膜进行热化学抛光。结果表明：Ce-7％F......
利用XRD（包括sin^2ψ法）研究了电子辅助热灯丝化学气相沉积法（EA-HFCVD）生长的自支撑硼掺杂多晶金刚石薄膜的残余应力和微观应力．结果表......
介绍了化学气相沉积(CVD)金刚石膜应用于电真空器件夹持杆及输能窗方面的研究进展,以及国外对CVD金刚石封接技术解决方案以及国内C......
文章从经济的角度,通过专业的财务分析,对CVD金刚石膜这一新型材料的投资价值进行研究。研究认为,CVD金刚石膜将成为金刚石材料未......
直流喷射化学气相沉积金刚石膜，其完整性一直是个难以解决的技术难题，并且直接影响了其推广应用。文章通过研究金刚石膜的质量、衬鹿......
研究了电沉积层作为过渡层沉积CVD金刚石膜的工艺,在硬质合金的Cr电沉积层上用热丝法沉积出CVD金刚石膜.利用SEM分析了电沉积层的......
CVD金刚石膜作为光学透射窗口和新一代计算机芯片的材料，其表面必须得到高质量抛光，但是现存方法难以满足既高效又超精密的加工要求．......
利用Nd：YAG型金刚石精密激光切割机，采用激光轴向偏焦法对化学气相沉积（CVD）法制备的金刚石膜表面进行扫描式平整化处理，利用扫描电子显......
CVD金刚石膜的应用范围日益扩大,已经从传统的刀具、模具领域扩展至高频通讯、光 电、微电子等产业.本文首先通过理论分析建立抛光......
为了了解直流等离子喷射CVD自支撑金刚石膜高温氧化机理,利用热失重的方法研究了金刚石膜在不同温度、不同氧浓度条件下的氧化反应......
用微波等离子体化学气相沉积方法合成高品质同质外延金刚石膜，并且用扫描电镜和阴极荧光分析法评价。为了得到高薄膜生长速率，把甲烷......
提出了一种新型的CVD金刚石膜/硅(p～1010Ω·cm)为基板的微条气体室,阳极宽度7μm,阴极100 μm,间距200 μm.室温下,充以1.01&#......
研究了CVD金刚石膜氧化行为与断裂强度的关系.试验结果表明:CVD金刚石膜随着高温氧化时间延长,其断裂强度不断下降;同样,随氧化温......
利用熔融稀土铈（Ce）对CVD金刚石厚膜进行了抛光研究。详细讨论了工艺参数对抛光速率和表面粗糙度Ra的影响，获得了最佳抛光工艺。通过......
化学气相沉积金刚石膜是聚优异力学、电学、热学性能于一体的材料。金刚石激光打孔过程中存在特有的石墨化现象使得其温度场的分布......
电推进装置与传统的推进装置相比,具有比冲高、体积小、质量轻、易控制的优点。随着人们对于太空探索范围不断的扩展,电推进需要承......
在CH4/H2气氛下,利用直流热阴极PCVD(Plasma chemical vapor deposition)设备制备的金刚石膜并研究其高温氧化行为。对制备的样品......
CVD金刚石膜的高速机械研磨是一种高效的研磨方法,研磨区域的温度场分布直接影响金刚石膜的研磨质量。本文采用三维热-力耦合有限......
CVD金刚石膜因其极高的强度和耐磨特性在微机电系统（MEMS）领域具有极好的应用前景，然而其极高的硬度和化学惰性又使其很难被加工成型，......
采用微波等离子体化学气相沉积方法（microwave plasma chemical vapor deposition,MPCVD）在高沉积气压（34.5kPa）下制备多晶金刚石,利用......
阐述了金刚石作为激发材料在辐射探测器中的应用范围,比较了硅、化学气相沉积(CVD)金刚石膜和天然金刚石作为探测器用激发材料的性......
金刚石以其独特的性能成为辐射探测器的理想材料。采用HFCVD方法制备了高质量、（100）取向的CVD金刚石膜，在此基础上研制出X射线探测器......
随着核技术的广泛应用,核辐射探测器所面临的应用环境也变得越来越苛刻。辐射防护及辐射环境的安全可控也变得越来越重要。传统的......
报道了CVD金刚石膜磨耗比的一种简易快速测量方法。该方法通过测量金刚石膜被磨耗的体积来求得磨耗比。其优点是不使用微量分析天......
通过等离子体喷射CVD（chemical vapor deposition）方法生长了光学级金刚石厚膜,运用电火花和机械抛光技术对厚膜进行了双面抛光,并研......
本文基于化学气相沉积(CVD)金刚石膜的超高热导率,设计并搭建了一套实验系统,分析其对于小空间高热流密度电子元件的散热效果。通......
CVD金刚石膜具有与单晶金刚石相近的力学性能,是一种理想的高精度刀具材料。研磨是制作CVD金刚石厚膜高精度刀具的关键环节之一。......
回 回 产卜爹仇贱回——回 日E回。”。回祖 一回“。回干 肉果幻中 N_。NH lP7-ewwe--一”＄ MN。W;- __._——————》 砧叫]们......
由于金刚石膜的加工极其困难，提出了一种通过在制备过程中掺杂使金刚石膜导电的金刚石膜精加工新工艺，利用电火花对掺杂金刚石膜进行......
采用微波等离子体化学气相沉积法，以CH4-CO2为气源，通过改变CO2的流量，探讨了此气源下金刚石膜的生长情况。利用扫描电子显微镜对制备......
采用红外椭圆偏振光谱仪对HFCVD方法所制备的不同取向金刚石薄膜的光学参数进行了测量．结果表明（001）取向金刚石薄膜具有较佳的光学质......
利用微波等离子体化学气相沉积技术在光学玻璃衬底上制备了金刚石膜，利用原子力显微镜技术及显微力学探针研究了膜层的表面形貌及显......
金刚石是一种集众多优异性能于一身的功能材料,随着现代科学技术的发展,金刚石材料和制品的高质量生长和应用取得了很大进展,目前......
ZnSe、ZnS和Ge等是目前广泛应用于8～11.5μm(1250～870cm-1)波段的红外窗口和头罩材料，但随着红外器件的功率越来越高，这些窗口和头罩材......
在硬质合金的Cu、Ni、Cr电沉积过渡层上采用热丝CVD法沉积出金刚石薄膜。利用SEM和Paman对金刚石薄膜进行了研究，对影响膜基结合强......
