【摘 要】
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<正> 季华,中芯国际存储器技术开发中心助理主任,负责 MTD部门模组工艺开发,目前专注于90nm、110nm 和130nm 技术(DRAM.Flash 等)。拥有半导体领域超过15年的经验。1990年,加
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<正> 季华,中芯国际存储器技术开发中心助理主任,负责 MTD部门模组工艺开发,目前专注于90nm、110nm 和130nm 技术(DRAM.Flash 等)。拥有半导体领域超过15年的经验。1990年,加入上海贝岭任扩散工艺工程师;1994年,加入新加坡特许半导体 Fab2厂任薄膜工艺工程师,后转入 Fab6厂任薄膜工艺经理;2001年,加入茂矽位于 San Jose 的技术开发中心。曾获新加坡国立大学电子工程硕士学位。罗仕洲,毕业于国立台湾大学,于1995年获得化学工程学士学位;曾在中国台湾和中国大陆拥有湿法领域9年的工作经验。目前担任中芯国际 S1 Fab 湿法部门经理。
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