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为提高电镀电流的稳定性和精度,提出了一种基于单神经元的电镀电流控制算法。介绍了电镀控制系统,包括主电路和主控制器。主电路为电镀过程提供直流电源,主控制器则确保电镀参数的准确性。以电流调控为主要研究对象,将单神经元控制与PID相结合,设计了一种单神经元PID控制器,其参数可自适应调整,能够适应复杂多变的工作环境。仿真和实验结果表明:电镀电流的控制精度明显提高,该控制系统具有响应速率快、控制输出稳定等优点,有利于提升镀件质量。