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光学光刻的极限
光学光刻的极限
来源 :电子工业专用设备 | 被引量 : 0次 | 上传用户:ywyyang
【摘 要】
:
讨论了光学光刻技术的各种分辨力增强技术(RETs),根据各类光刻设备的开发进展,探讨了光学光刻技术的加工极限.
【作 者】
:
童志义
【机 构】
:
中国电子科技集团公司第四十五研究所
【出 处】
:
电子工业专用设备
【发表日期】
:
2004年2期
【关键词】
:
光学光刻
分辨力增强技术
浸没式透镜
偶极照明双重曝光
分辨力极限
Optical Lithography
RETs
Immersion Lithography
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讨论了光学光刻技术的各种分辨力增强技术(RETs),根据各类光刻设备的开发进展,探讨了光学光刻技术的加工极限.
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