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退火温度对真空热蒸发法ZnS:In薄膜光电性能的影响
退火温度对真空热蒸发法ZnS:In薄膜光电性能的影响
来源 :现代显示 | 被引量 : 0次 | 上传用户:qwer32173
【摘 要】
:
采用真空热蒸发工艺,在ITO基片上分别制备ZnS薄膜和In薄膜,在正交实验条件下,以2%掺杂浓度的In原子掺杂可获得较高的载流子浓度,在此基础上,研究了不同退火温度对ZnS:In薄膜的光、电
【作 者】
:
陈金伙
李文剑
程树英
【机 构】
:
福州大学物理与信息工程学院
【出 处】
:
现代显示
【发表日期】
:
2012年12期
【关键词】
:
ZNS薄膜
In掺杂
真空热蒸发
光电性能
退火
thin film of ZnS
In doping
thermally vacuum-evaporati
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采用真空热蒸发工艺,在ITO基片上分别制备ZnS薄膜和In薄膜,在正交实验条件下,以2%掺杂浓度的In原子掺杂可获得较高的载流子浓度,在此基础上,研究了不同退火温度对ZnS:In薄膜的光、电性能的影响。
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