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不同裂解升温速率制备的Cf/Si3N4复合材料性能研究
不同裂解升温速率制备的Cf/Si3N4复合材料性能研究
来源 :材料工程 | 被引量 : 0次 | 上传用户:zhizu81748
【摘 要】
:
以聚硅氮烷为先驱体,研究先驱体转化过程中不同裂解升温速率对制备3D-B Cf/Si3N4复合材料性能的影响.结果表明:随着裂解升温速率的提高,陶瓷基复合材料的力学性能明显提高,以
【作 者】
:
郑文伟
陈朝辉
方晖
马青松
【机 构】
:
国防科技大学新型陶瓷纤维及其复合材料国防科技重点实验室
【出 处】
:
材料工程
【发表日期】
:
2002年11期
【关键词】
:
Cf/Si3N4
陶瓷基复合材料
裂解升温速率
聚硅氮烷
力学性能
碳
氮化硅
ceramic matrix composites
pyrolysis hea
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以聚硅氮烷为先驱体,研究先驱体转化过程中不同裂解升温速率对制备3D-B Cf/Si3N4复合材料性能的影响.结果表明:随着裂解升温速率的提高,陶瓷基复合材料的力学性能明显提高,以10℃/min裂解升温速率制得的陶瓷基复合材料的弯曲强度达604MPa.
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