【摘 要】
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首次在多孔硅 （ＰＳ）的表面镀纳米二氧化钛 （ＴｉＯ２）薄膜，表面光电压谱 （ＳＰＳ）测试表明：镀膜后多孔硅的光电压信号增强约２～３个数量级，其原因可能是双异质结构ＴｉＯ２／ＰＳ／ｐ－Ｓｉ能有效地吸收近红外一直到紫外光，并且近本征
【机 构】
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福州大学,福州大学,福州大学光催化研究所!福州市 350002
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首次在多孔硅 （ＰＳ）的表面镀纳米二氧化钛 （ＴｉＯ２）薄膜，表面光电压谱 （ＳＰＳ）测试表明：镀膜后多孔硅的光电压信号增强约２～３个数量级，其原因可能是双异质结构ＴｉＯ２／ＰＳ／ｐ－Ｓｉ能有效地吸收近红外一直到紫外光，并且近本征的多孔硅自建电场增大，使光生电子－空穴对能有效地分离；ＰＳ／ｐ－Ｓｉ之间的势垒差产生的阻止少于向电极扩散的背向电场，也能有效地增强光生电压．
For the first time, nanoporous titanium dioxide (TiO2) films were coated on the surface of porous silicon (PS). Surface photovoltage spectroscopy (SPS) tests showed that the photo-voltage signal of porous silicon increased by about 2 ~ 3 orders of magnitude after plating, which may be due to double heterostructure TiO2 / PS / p-Si can effectively absorb the near-infrared until ultraviolet light, and the intrinsic self-built electric field of porous silicon increases, so that photogenerated electron-hole pairs can be effectively separated; PS / p-Si Of the potential difference barrier to prevent less than the spread of the back-electric field to the electrode, but also can effectively enhance the photo-generated voltage.
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