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邻近效应是限制光刻系统分辨力的一个重要因素，它也限制了激光直写在亚微米和亚半微米光刻中的应用。分析了激光直写邻近效应产生的原因，指出它和电子束直写及投影光刻的区别，提出了一种简便有效的邻近校正方法。实验表明，通过光学邻近校正（ＯＰＣ），利用微米级激光直写系统，制作出了０．６μｍ的实用光刻线条
激光直写邻近效应的校正
【摘 要】
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邻近效应是限制光刻系统分辨力的一个重要因素，它也限制了激光直写在亚微米和亚半微米光刻中的应用。分析了激光直写邻近效应产生的原因，指出它和电子束直写及投影光刻的区别，提
【机 构】
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四川大学物理系; 中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家开放实验室;
【出 处】
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光学学报
【发表日期】
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1999年07期
【基金项目】
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国家自然科学基金,教育部博士点基金,中国科学院微细加工光学技术国家重点实验室资助项目
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