SU-8光刻胶去胶工艺研究

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【摘要】

：

SU-8光刻胶因具有良好的机械耐久性、聚合物水密性、介电性能、生物兼容性和抗化学腐蚀性而被广泛用于MEMS器件、生物医学和芯片封装等领域.现有制作工艺中,在不损伤器件的同

【作者】

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张笛王英瞿敏妮孔路瑶程秀兰

【机构】

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上海交通大学电子信息与电气工程学院先进电子材料与器件平台,上海200240

【出处】

：

微电子学

【发表日期】

：

2020年6期

【关键词】

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SU-8光刻胶 O2/CF4 等离子刻蚀去胶

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SU-8光刻胶因具有良好的机械耐久性、聚合物水密性、介电性能、生物兼容性和抗化学腐蚀性而被广泛用于MEMS器件、生物医学和芯片封装等领域.现有制作工艺中,在不损伤器件的同时完全去除和剥离SU-8光刻胶仍是一个难题.文章研究了一种基于O2/CF4等离子刻蚀配合湿法刻蚀的去除方法,实现了SU-8光刻胶在硅基底、非晶无机非金属材料、电镀金属等材料上的有效去除.

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