难熔夹层金属提高NiSi薄膜热稳定性的新思路

来源 :固体电子学研究与进展 | 被引量 : 0次 | 上传用户:yangjianwu2008
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首次给出了一种具有规律性的能用来提高镍硅化物热稳定性的方法。依据此方法,摸索出在Ni中分别以夹层金属掺入Pt、Mo、Zr、W金属来提高NiSi硅化物的热稳定性。概括总结了掺入难熔金属M后形成的三元镍硅化物Ni(M)Si热稳定性能。实验结果表明,Ni(M)Si硅化物薄膜四种镍硅化物薄膜有相同的热稳定性。以Ni/W/Ni/Si样品为例,经650-800℃快速热退火后,薄层电阻率保持较小值,小于3Q/□。XRD衍射、Raman光谱和AFM分析表明,Ni(M)Si薄膜界面平整,该薄膜中只存在低阻NiSi相,而没有
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