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磁控溅射中生长参数对氧化锌薄膜性能的影响
磁控溅射中生长参数对氧化锌薄膜性能的影响
来源 :半导体情报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:dx3386136
【摘 要】
:
介绍了氧化锌的应用和制备方法,着重研究了磁控溅射中各生长参数如衬底温度、氧分压及工作压强对氧化锌薄膜结晶质量和电学性能的影响.
【作 者】
:
邹璐
叶志镇
【机 构】
:
浙江大学硅材料国家重点实验室
【出 处】
:
半导体情报
【发表日期】
:
2001年6期
【关键词】
:
氮化锌
磁控溅射
生长参数
薄膜性能
ZnO
substrate temperature
oxygen partial pressure
carrier con
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介绍了氧化锌的应用和制备方法,着重研究了磁控溅射中各生长参数如衬底温度、氧分压及工作压强对氧化锌薄膜结晶质量和电学性能的影响.
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