【摘 要】
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为探究不同磁控溅射模式的技术特点,优化涂层制备工艺,采用脉冲直流磁控溅射、高功率脉冲磁控溅射以及它们的复合技术分别制备CrN和Cr-Mo-N涂层,研究不同磁控溅射模式对涂层
【机 构】
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天津职业技术师范大学天津市高速切削与精密加工重点实验室
【基金项目】
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国家自然科学基金资助项目(51301181),天津市科技重大专项(18ZXJMTG00050),天津市自然科学基金资助项目(19JCYBJC17100),天津职业技术师范大学科研发展基金资助项目(KJ2001).
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为探究不同磁控溅射模式的技术特点,优化涂层制备工艺,采用脉冲直流磁控溅射、高功率脉冲磁控溅射以及它们的复合技术分别制备CrN和Cr-Mo-N涂层,研究不同磁控溅射模式对涂层组织结构、力学性能和摩擦学行为的影响。结果表明:CrN涂层中fcc-CrN相沿(111)晶面择优生长,而在Cr-Mo-N涂层中fcc-CrN相沿(200)晶面择优生长,Mo元素以Mo2N的形式存在。3种涂层均呈柱状晶生长,复合磁控溅射技术制备的Cr-Mo-N涂层结构最致密且表面光滑;涂层硬度最高,约为2910 HV;膜/基结合好,临界载
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