高功率脉冲磁控溅射相关论文
采用高功率脉冲磁控溅射（HiPIMS）和直流磁控溅射（DCMS）共沉积技术制备了不同硅含量的无氢Si-DLC薄膜，利用高温摩擦试验机对比考察了不同......
TiAlSiN涂层具有高硬度、良好的耐磨性和热稳定性,在切削刀具等领域具有广泛应用。高功率脉冲磁控溅射（HIPIMS）技术通过在短时间内对......
为了防止氢扩散而导致金属材料的失效，通常在其表面制备一层CrN阻氢薄膜。但是CrN涂层的热稳定性较差，抗氧化温度低于600 ℃。采用高......
类金刚石碳（DLC）膜是具有高硬度、高化学惰性、高耐磨性等优异性能的薄膜材料,在许多不同领域有着一定应用规模和发展前景。但目前类......
首先采用纳秒紫外激光器（355 nm）在H13钢（4Cr5MoSiV1）表面制备了不同密度及规则排布的微织构阵列，再采用高功率脉冲磁控溅射和电弧离子......
管状工件内表面涂层制备相比于一些其他平面件镀膜会有更多的技术障碍,对于复杂的和小尺寸的管道类型,现有的优异的处理方法不能被......
本文旨在以高功率调制脉冲磁控溅射（Modulated Pulsed Power Magnetron Sputtering, MPPMS）、等离子体基离子注入（Plasma-Based Ion I......
CrN薄膜的内应力低,韧性好,化学稳定性高,耐磨耐蚀性能好,并且在制备过程中与基材的结合强度大,沉积速率快,所以备受关注。用磁溅......
柔性硬质纳米涂层具有高致密性、高表面完整性、高硬度、高韧性和高裂纹抵抗力特性,是新一代高性能纳米涂层的一个重要发展方向,但......
类金刚石(Diamond-like carbon,DLC)涂层是一种集高硬度、高耐磨性、高导热率、良好的生物相容性和低摩擦系数等优良特性于一体的......
Ti2AlN薄膜兼具金属和陶瓷的性能优势,真空退火Ti/AlN多层膜制备Ti2AlN薄膜的方法是实现其工业化应用的手段之一。Ti2AlN的晶体结......
基于高功率脉冲磁控溅射(HiPIMS)技术开发的筒形溅射阴极,配合电磁系统可有效地提升等离子体的输运效率.然而电磁系统的引入反作用......
氧化锌薄膜材料由于具有高电导率、良好的光学透过率、原料储存丰富、成本低廉的特点,被认为是最具有潜力的透明导电薄膜.特别是其......
高功率脉冲磁控溅射技术是近年来发展起来的一种新型的物理气相沉积方法,等离子体密度可高达1018m-3数量级,靶材原子的离化率可高......
基于辅助阳极的电场增强高功率脉冲磁控溅射(HiPIMS)技术改善了常规HiPIMS放电及镀膜过程.研究工作参数对电场增强HiPIMS的调制作......
研究磁场增强高功率脉冲磁控溅射技术的放电特性在不同工作参数下的演变规律.利用数字示波器采集HiP-IMS的基体离子电流用于表征其......
采用高功率复合脉冲磁控溅射技术(HPPMS)在316不锈钢、硬质合金基体上沉积了TiN薄膜,研究不同N2流量下TiNx膜层的沉积速率、硬度、......
为了使高功率脉冲磁控溅射(HiPIMS)技术在保持高离化率的条件下实现HiPIMS高速沉积过程,采用电场与磁场双外场协同作用改善HiPIMS......
采用高功率脉冲磁控溅射法在Si和高速铜基底上制备类石墨（Graphite—likecarbon，GLC）非晶碳膜，研究了基底偏压对薄膜微观结构、机械性......
采用高功率脉冲磁控溅射与脉冲直流磁控溅射复合镀膜技术制备AlCrSiN/Mo自润滑涂层,通过真空退火处理改善其结构和性能。利用扫描......
Al2O3具有较高的硬度和耐磨损性,良好的热传导性、光学透过性以及化学稳定性,广泛应用于光电器件、机加工业和航空航天等领域。常......
近年来多元纳米复合涂层的发展,为制备高速切削、干式切削高质量涂层刀具提供了更优异的解决方案。采用国际新型高功率脉冲磁控溅......
为了解决气相沉积硬质涂层研究及应用中硬度和韧性难以同时兼得的问题,本文采用高功率脉冲磁控溅射技术在W涂层中掺杂小原子N的方......
高功率脉冲磁控溅射（HiPIMS）是在磁控靶上施加低占空比的高功率脉冲以产生高能量、高密度等离子体的一种新型磁控溅射技术。该技术具......
随着现代制造业的飞速发展,难切削材料逐渐增多,如航空航天钛合金、高硅铝合金和碳纤维复合材料等,呈现出高强、高硬和高韧的特点,......
高功率脉冲磁控溅射(HPPMS)因其高离化率而得到广泛关注,是目前的热点研究方向,为此我们搭建了试验平台并对HPPMS的放电特性进行了......
近年来,高功率脉冲磁控溅射技术(HPPMS)以其较高的溅射材料离化率已经成为真空镀膜领域的研究热点,并不断的被应用在硬质涂层、光......
等离子体源离子注入与沉积技术作为一种可生产高结合力、高致密度涂层的真空镀膜技术,具有广阔的应用前景,尤其适用于高载荷工况下......
高功率脉冲磁控溅射技术(HPPMS)作为一种溅射材料离化率高,可以沉积致密、高性能薄膜的新技术得到广泛研究。我们研制了复合脉冲高......
高功率脉冲磁控溅射(Hi PIMS)技术被提出以来就受到广泛关注,其较高的溅射材料离化率结合适当的电磁控制,可产生高致密度、高结合......
等离子体源离子注入与沉积技术作为一种可生产高结合力、高致密度涂层的真空镀膜技术,具有广阔的应用前景,尤其适用于高载荷工况下......
等离子体源离子注入与沉积技术作为一种可生产高结合力、高致密度涂层的真空镀膜技术,具有广阔的应用前景,尤其适用于高载荷工况下......
类金刚石碳(Diamond like carbon, DLC)薄膜是一种由sp3和sp2键组成的非晶质碳膜,显示出优良的机械、光学、电学等性能。高功率脉......
针对高功率脉冲磁控溅射(HPPMS)的缺点,结合沉积技术(PBII&D)技术,提出了一种新的处理方法——高功率脉冲磁控放电等离子体离子注......
为探究不同磁控溅射模式的技术特点,优化涂层制备工艺,采用脉冲直流磁控溅射、高功率脉冲磁控溅射以及它们的复合技术分别制备CrN......
机械加工业向高速化、自动化、精密化方向快速发展,对加工用的刀具提出了越来越高的要求,希望在精密、高速以及长寿命的条件下切削......
可调脉冲电源MPP(modulated pulsed power)磁控溅射技术是一种新型的高功率磁控溅射技术。基于STC12C5A60S2单片机为控制单元研制......
目的通过掺杂适量Al元素来固溶强化Cr N薄膜,从而提高薄膜的抗氧化性能和热稳定性。方法采用高功率脉冲磁控溅射和脉冲直流磁控溅......
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高功率脉冲磁控溅射技术（HIPIMS）是一门新兴的高离化率磁控溅射技术。概述了HIPIMS的技术优势,包括高膜层致密度和平滑度、高膜基界......
非晶碳薄膜主要由sp^3碳原子和sp^2碳原子相互混杂的三维网络构成,具有高硬度、低摩擦系数、耐磨损、耐腐蚀以及化学稳定性等优异......
高功率脉冲磁控溅射(HiPIMS)是一种新兴的薄膜溅镀技术,能够在瞬间产生的高密度等离子体,有效地改善薄膜性能,对薄膜工业的发展有......
在新材料研究前沿领域中,当今的沉积技术已经发展到能够制备高质量薄膜的程度,比如化学气相沉积(chemical vapor deposition, CVD)......
