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介绍了一种新型离子束刻蚀装置。该装置具有如下特点：工件台可进行二维运动,带有自动挡板机构和独立的测束装置,中国电子科技集团公司第四十八研究所研制的平行束离子源,以及分子泵加机械泵的真空系统。工艺试验结果表明,该设备是一台先进的半导体工艺设备,性能稳定,刻蚀均匀性可达±4%。
一种新型离子束刻蚀装置的研制
【摘 要】
：
介绍了一种新型离子束刻蚀装置。该装置具有如下特点：工件台可进行二维运动,带有自动挡板机构和独立的测束装置,中国电子科技集团公司第四十八研究所研制的平行束离子源,以及
【机 构】
：
中国电子科技集团公司第四十八研究所
【出 处】
：
电子工业专用设备
【发表日期】
：
2010年1期
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