六氯化二硅相关硕士博士期刊学术论文 - 信丰网

六氯化二硅相关论文

用Si<sub>2</sub>Cl<sub>6</sub>作渗剂的低温气体渗硅法

使用六氯化二硅作为CVD（化学气相沉积）原料,可以低温气相合成SiC或Si<sub>3</sub>N<sub>4</sub>涂层。此外,在金属成合金气体渗硅时,......

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气体渗硅 Si<sub>2</sub>Cl<sub>6</sub> 六氯化二硅渗剂耐蚀性比用化学气相沉积

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