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本文采用真空电子束蒸镀技术在多谱段ZnS衬底上沉积了适合金刚石膜沉积的致密陶瓷过渡层,并利用微波等离子体CVD金刚石膜低温沉积......
利用石英管型波等离子体化学气相沉积装置在Si衬底上沉积了纳米片状碳膜,然后采用电子束蒸镀方法在碳膜表面沉积了一层2 nm厚的Ti......
采用微波等离子体化学气相沉积法,在预镀陶瓷过渡层的硫化锌衬底上沉积金刚石膜2在以前的实验中,我们发现在陶瓷过渡层上沉积金刚......
本文报道用反应气体SiF4和H2的微波等离子体化学气相沉积法低温(360℃)生长多晶Si(poly-Si)薄膜及其生长表面反应控制.实验发现,生......
金刚石薄膜具有优异的力学、电学、声学、光学、热学性能,在高密度集成电路封装材料、导弹雷达罩保护涂层、电化学电极及其他高新......
采用微波等离子体CVD法,在其它生长条件和参数不变情况下,研究温度对制备金刚石膜的影响.通过扫描电镜、X射线衍射分析仪和拉曼光......
与微米金刚石薄膜不同,纳米金刚石薄膜表面平滑。因此,在摩擦学应用领域中,纳米金刚石薄膜是最理想的。本研究利用CH4/H2微波等离......
采用辽宁瓦房店及山东蒙阴产天然金刚石、俄罗斯高温高压（HPHT）金刚石以及美国Element Six公司CVD金刚石作为种晶,进行红外光谱、激......
