掩模技术相关论文
最近二十余年来，低密度奇偶校验（Low-Density Parity-Check，LDPC）码由于其逼近香农限的优越性能，得到了非常丰富和深入的研究与应用。然......
光刻一般被认为是每代半导体器件的关键技术.几十年来光学投影光刻是大批量生产集成电路光刻技术的最好选择,目前普遍认为光学系统......
波前像差虽然是个简单函数,但是却能对成像系统的光学特性进行完整的描述.近年来,Hartmann-Shack波前传感器测量人眼波前像差技术......
根据国内外研究和发展现状 ,对有望突破 1 0 0nm超精细图案光刻分辨率的一些关键技术进行了阐述 ,其中包括曝光技术、掩模技术、光......
首次采用铝掩模工艺制备出 9× 9硅基聚合物阵列波导光栅 (AWG)复用器。结果表明 ,在AWG器件制作工艺上 ,铝掩模技术明显优于厚胶......
简述了现有掩模技术制备磁隧道结的过程;指出了采用定位图形套准模板存在的弊端;介绍了1种将基片固定,利用定位螺栓套准模板的装置......
针对不规则低密度奇偶校验码（LDPC码）误码性能好,但编码复杂度高的问题,利用重复积累码（RA码）能有效编码的特性和掩模技术,提出了一种......
本文介绍了动画的基本原理以及利用C语言程序设计实现动画的常用方法,并提出了在C语言中另外的一种动画设计方法--基于掩模技术的C......
对基于Hartmann-Shack(H-S)原理测量人眼波前像差的掩模技术进行了研究.利用光学系统将液晶显示器(LCD)制成的掩模对应成像在微透......
背景日本凸版印刷公司成立至今已有百余年的历史,其光掩模业务至今也有近70年的技术沉淀,并已成为全球高端光掩模制造的主力军。应......
