火焰水解法相关论文
随着光通信的飞速发展,Si基SiO2平面光波导集成器件的应用更加重要和广泛。在Si基上制备高质量的厚SiO2 薄膜,是制作SiO2光波导及......
采用火焰水解法(FHD)在Si片上快速淀积出SiO2厚膜材料,材料膜厚40μm以上,生长速率8μm/min.将该材料分别在真空中和空气中高温致......
采用火焰水解法(FHD)在Si片(4.5cm)上快速淀积疏松多孔的SiO2厚膜材料,淀积速率达8μm/min.然后将该材料分别在真空/空气气氛中高......
采用火焰水解法在Si 基上淀积SiO2 / GeO2：SiO2 预制材料，然后在真空中/空气气氛中高温处理（1380 ℃）后，制得玻璃化的SiO2 / GeO2：SiO2......
提出了一种可能代替传统的利用反应离子刻蚀法(RIE)来制作阵列波导光栅(AWG)的新方法--紫外写入法.对紫外写入法制作AWG的可行性和......
平面光波导在光波分复用技术中起着重要的作用,尤其是Si基SiO2波导器件在光通信领域中具有许多优点.因此,如何在Si衬底上制备出性......
采用火焰法水解法在Si衬底上制备了厚度约20 μm的波导下包层材料SiO2膜.利用原子力显微镜(AFM)、X射线光电子能谱(XPS)及可变入射......
