电子束曝光相关论文
电子束曝光技术是制备纳米精细结构的关键技术,在纳米科学研究、微纳原型器件制备、生物医学等领域具有广泛的应用。本论文以电子......
有机高分子材料具有生物亲和性、柔性、易于制备等特点,因此科学家们对此类材料的纳米结构进行了广泛地研究,有机纳米光子结构的机......
由于三维功能微纳结构可以实现平面微纳结构所无法得到的卓越光学性能,所以吸引了大量研究者对其进行兴趣。目前,基于三维光功能微......
偏振探测是主要面向光波偏振特征的探测技术研究。相对于传统的强度探测,偏振探测着重光波的偏振特性,细致地呈现了被探测物的信息......
本文主要研究了外界干扰对磷化铟多孔层的影响,利用电子束曝光技术辅助电化学刻蚀技术和激光干涉技术辅助电化学刻蚀技术,分别制备......
纳米加工技术是人类了解微观世界的工具,但加工能力往往受设备所限。碳纳米管作为一种新型纳米材料,具有很多独特的物理性质。本文......
针对氮化铝微环谐振腔实现临界耦合条件困难的问题,设计并制备了氮化铝弯曲耦合微环谐振腔。分析了微环谐振腔耦合系数公式,分别阐......
纳米永磁材料,因其磁性能卓越,力学性能稳定,热稳定性高,耐腐蚀性强,近年来成为永磁材料领域炽手可热的研究热点.纳米双相耦合永磁......
期刊
本论文主要介绍了基于DSP处理器的新型图形发生器的单元图形生成算法尤其是圆形和椭圆等圆锥曲线的生成算法以及应用此类算法所进......
针对电子束曝光领域影响曝光分辨率的一个重要原因—电子在固体中的散射，从电子与固体物质的相互作用机理入手进行分析，分析相互作用......
学位
二氧化钛（TiO2）作为一种重要的宽带隙半导体材料，已经被广泛应用在光催化、污染物降解处理、太阳能电池等众多领域。TiO2纳米材料因其......
自1959年集成电路发明以来，它已经对人类的生产和生活方式的很多方面产生了极其重大的影响。集成电路正以线宽每年缩小30％、集成规模......
I线光致抗蚀剂可以同时实用电子束和光学系统曝光 ,在 50kV加速电压下 ,其曝光剂量为 50～ 1 0 0 μC/cm2 ,曝光后在 0 7%NaOH溶液......
建立一个更为严格地描述电子散射过程的物理模型,运用Monte Carlo方法模拟高斯分布电子束在靶体PMMA-衬底中的散射过程,研究不同曝......
期刊
采用不同的方法裁剪高定向热解石墨(HOPG),制备纳米尺寸的石墨条.首先,发现用聚焦离子束(镓离子)刻蚀高定向热解石墨,可以得到边缘......
提出了在0.1 keV～30 keV能量范围内进行电子束曝光Monte Carlo模拟的分段散射模型优化方案.在该方案中,对所有的弹性散射均采用精确......
亚微米尺寸金属电极在高电子迁移率晶体管(HEMT)等半导体电子学器件中有重要应用,其制作是器件制作中的关键工艺,对器件性能有着重......
光子晶体这类新型材料的出现使人们操纵和控制光子的梦想成为可能,全光集成也将会因光子晶体的应用有突破性进展.光子晶体集成能否......
建立一个描述低能电子在多元多层介质中散射的物理模型 ,运用MonteCarlo方法模拟低能电子在靶体胶衬底中的复杂散射过程 ,在此基础......
提出一种改进的自旋转移矩器件的制备工艺:在电子束曝光形成纳米级图形之后,依次采用离子束刻蚀、带胶绝缘层淀积再正胶剥离的图形......
采用不同的方法裁剪高定向热解石墨(HOPG),制备纳米尺寸的石墨条.首先,发现用聚焦离子束(镓离子)刻蚀高定向热解石墨,可以得到边缘......
文章在比较不同数据传输方式的基础上简述了在电子束曝光过程中上位机曝光软件和下位机工件台控制系统之间的控制指令结构及其传送......
经过严格论证,提出一种计算简便,易于软件实现的电子束束斑直径定义方法,在此基础上运用Monte Carlo方法对高斯分布电子束斑进行模......
系统阐述了缩小投影(或纳米投影)电子束曝光技术的原理,以及如何将一台透射电镜改装为原理论证机的主要过程.内容包括机械结构的变......
随着微电子技术的发展，某些特殊器件如集成光栅的生产，需要进行圆弧图形的曝光。在Bresenham算法的基础上，提出了一种圆生成算法及填......
介绍了将商用透射电镜JEM-2000EX改造为高能电子束曝光系统的研制工作,在现阶段研制工作的基础上进行了曝光实验.结果表明,利用此......
根据中国科学院电工研究所研制的DY-2000型实用化电子束曝光系统对曝光图形数据格式的要求及用户的需要,对原曝光文件格式(EDF)进......
介绍了基于扫描电镜的电子束曝光机对准系统的原理,详细分析了此系统的硬件设计、软件设计以及扫描场的校正过程.利用硬件获取扫描......
电子束曝光数据格式是针对电子束曝光系统设计的、可被曝光机直接识别的一种专用电子束曝光图形数据格式。利用VC++开发环境实现了......
化学放大胶(Chemically Amplified Resists,简称CARs)是下一代光刻技术中极具发展潜力的一种光学记录介质.介绍了化学放大胶在电子......
电学性能测试是微纳米材料物性研究的重要组成部分,测试电极的制备是其中一个难点。光学光刻、电子束曝光或聚焦离子束加工是三种......
电子束光刻技术是纳米级加工技术的主要手段,在纳米器件加工、掩模制造、新器件新结构加工中扮演举足轻重的角色.虽然现在最先进的......
建立了一个适用于描述低能电子散射的物理模型，利用Monte Carlo方法对低能电子在多元多层介质中的散射过程进行模拟。低能电子弹性......
讨论了聚焦电子束曝光中的邻近效应问题,阐述了扫描隧道显微镜的原理和工作方式.把扫描隧道显微技术用于低能电子束的光刻,不仅能......
基于扫描电镜（SEM）的纳米级电子束曝光系统能够以较低成本满足科研单位对纳米加工设备的需求。在电子束曝光系统中，需要快速束闸控制......
基于激光干涉仪的精密工件台是电子束曝光机的关键设备。为了改进工件台控制器的运算速度,设计了一种基于FPGA的电子束曝光机工件......
分焦平面像素偏振片的单元大小为像素尺寸,能够集成到CMOS相机的像元表面,可以实现多方向同时偏振成像探测。利用电子束曝光和ICP......
提出一种新的随动坐标系矢量转换方法,给出用于转换散射电子空间输运坐标的矩阵方程.该方程具有递推的形式,计算方便,并且只涉及乘......
应用FDTD方法计算了二维无限大光子晶体的能带结构，并制备出了InP基二维平板结构的光子晶体器件．在制备过程中尝试了仅用PMMA做掩模......
结合制作光子晶体结构的具体要求，研究了电子束曝光得到的电子束胶上（GaAs衬底）随实验条件变化的图形。结果表明，胶的厚度、曝光剂量、......
随着纳米科技的迅速发展．下一代光刻技术在微细加工领域发挥着日益重要的作用。作为复杂半导体加工主要手段之一的电子束曝光系统，需......
偏振成像提供了有别于强度(即明暗)、频率(即颜色)以外的另一维度的信息。偏振片是偏振成像的重要组件,能实现对特定偏振方向光的......
为了在体硅CMOS FinFET中用等离子体腐蚀精细凹槽图形,研究了将电子束直写曝光用于原为深紫外光学曝光的UV3正性抗蚀剂的工艺技术;......
纳米尺度的高分辨功能性结构在微电子器件、等离激元光学、生物传感等领域有着重要的应用。但是如何更加高效地加工出更高精度的功......
由于加工过程无需掩模、加工精度高和加工方法灵活等优点,电子束曝光成为了力、热、声、光、电等学科在纳米尺度开展研究的关键技......
简单介绍了电子束光刻的优缺点及其在科研领域中展现的巨大应用潜力,重点阐述了如何利用基于扫描电子显微镜技术的电子束曝光工艺......
