离子束沉积相关论文
前言 近年来,随着科学技术的飞跃发展,真空镀膜技术不但广泛地应用于光学、电子、半导体以及原子能和空间技术等许多工业和科学领......
类金刚石(DLC)优异的性能使其在工业中的应用受到越来越大的重视。在各种工模具上沉积DLC，可延长其使用寿命、提高工作效率并可改善......
在薄膜溅射沉积中,用具有能量的离子或中性粒子轰击薄膜对薄膜结构有重大影响,这些影响由于沉积条件的不同变化非常大,特别是质点......
该文从挂篮荷载计算、施工流程、支座及临时固结施工、挂篮安装及试验、合拢段施工、模板制作安装、钢筋安装、混凝土的浇筑及养生......
采用离子束溅射沉积法,在单晶Si基片上制备了不同厚度(1—100nm)的Co纳米薄膜.利用原子力显微镜、X射线光电子能谱(XPS)仪和X射线......
Ag纳米粒子的形貌对InGaN／GaN多量子阱（MQWs）的光致发光（PL）效率有着显著影响。本文采用离子束沉积（IBD）技术将Ag沉积在InGaN／GaNMQWs上，然......
采用离子束沉积方法在Ta12W合金表面制备了Sn,In软金属薄膜,Al2O3陶瓷薄膜和In/Al2O3复合薄膜.利用销盘摩擦磨损试验机并结合SEM观......
采用离子束沉积方法制备了PdC纳米结构，并对材料的电子输运性能进行了研究。利用扫描电子显微镜（SEM）和X射线能谱仪（EDX）分析了材料的微......
在单晶Si基片用离子束溅射沉积法制备了1-100 nm的Al2O3纳米薄膜.利用原子力显微镜分析和研究了不同厚度Al2O3纳米薄膜的表面形貌,......
随着摄像技术的快速发展,其仪器精度要求不断增加,对元器件的技术要求也相应提高。标准光源作为摄像模块感光器中的重要组成系统,......
“离子注入”是人们所熟悉的一项工艺技术。所谓“离子注入”就是将某种元素的离子在电场中加速,然后让高速离子打入某种材料的靶......
采用离子束溅射沉积法，在单晶Si基片上制备了不同厚度（1nm-100nm）的Co纳米薄膜。利用原子力显微镜和X射线光电子能谱仪对不同厚度的Co......
采用离子束沉积的方法制备了PtCx纳米结构,并对材料的电子输运性能进行了研究。利用扫描电子显微镜（SEM）和X射线能谱仪（EDX）分析了材料......
采用能量为80eV的甲烷和氢气混合（1：5）离子束在700℃下辐照多壁碳纳米管得到了石墨纳米晶包覆多壁碳纳米管的复合物。扫描电子显微镜......
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类金刚石薄膜等硬质碳膜具有许多优异特性,其开发研究已引起人们的极大关注.文章就类金刚石薄膜和金刚石薄膜的最新制备方法与各种......
类金刚石(DLC)膜具有一系列的优点,在许多领域具有广泛的应用,因此正逐渐成为人们的研究热点,钛掺杂DLC膜使薄膜的硬度和弹性模量......
GaN基Ⅲ族氮化物材料的机械、化学和光电性能十分优良,是制备短波发光二极管(LED)、激光器(LD)以及光电探测器件的优选材料。但是,......
分别采用两种不同的方法制备了ZnO薄膜。①离子束溅射法（IBD）,在Si（001）衬底上制备锌膜后在氧气氛炉中退火;②射频溅射法（RF）,在Si（001）衬......
