膜厚分布相关论文
基于直流磁控溅射的基本原理,通过对小圆形磁控溅射平面靶的特点分析,建立了磁控溅射系统的几何模型,推导出了膜厚分布的数学理论......
根据行星夹具的膜厚理论模型, 对半球透镜表面的膜厚分布进行理论分析研究。推算半球面上典型点的膜厚公式, 用代 入法对不同情况......
利用数学理论模型对平面行星夹具进行膜厚分布分析;然后采用电子束蒸发技术,以常用的Ta2O5和SiO2作为镀膜材料,在该行星夹具上分别......
以煤矿机械中常用的井下流体设备深井水泵中的推力轴承为研究对象,用水代替油作为润滑介质,采用有限差分法,离散柱坐标下的二维雷......
有机气相沉积是一种基于载气体传输的有机薄膜生长方式。为了优化沉积参数,提高有机薄膜的均匀性,建立了简化的OVPD模型,模拟了不......
磁控溅射法是制备薄膜的一种重要方法,薄膜厚度分布是影响薄膜性能的一个重要因素.本文根据平面磁控溅射的实际,提出了一个较为全......
分别建立了旋转平面与球面夹具配置下的薄膜膜厚均匀性理论计算模型,对3.6m大口径镀膜机下直径为2.6m基板的膜厚均匀性进行了研究......
泳透力又称泳透性，是指在电泳涂装过程中使背离电极的被涂物表面涂上漆的能力。泳透力表示电泳涂膜膜厚分布的均一性，是电泳涂料的重......
以（100）硅片为衬底,通过双离子束溅射生长不同厚度的Cu纳米薄膜.利用原子力显微镜及椭偏仪对样品进行分析和研究.结果表明：离子束在斜......
通过计算得出了蒸发源位于倒圆锥面正下方外部镀膜时锥面上各点的膜厚方程，并对整个锥面上膜厚均匀性进行了理论分析。结果表明：当圆......
对蒸发源位于非平面基底一半球面正下方时膜厚均匀性进行了理论研究。通过建立无量纲模型计算了此种几何配置下，半球表面在两种常见......
回 回 产卜爹仇贱回——回 日E回。”。回祖 一回“。回干 肉果幻中 N_。NH lP7-ewwe--一”＄ MN。W;- __._——————》 砧叫]们......
晶体硅太阳能电池生产企业多使用的减反射技术为PECVD法沉积氮化硅减反射膜。并已在单层氮化硅膜的基础上进一步优化为多层氮化硅......
：为考察实际磁控溅射镀膜生产过程中由于靶材不断刻蚀消耗而造成的膜厚分布变化，文中就圆形磁控溅射靶建立了沉积模型，采用泰勒级数展......
