金刚石厚膜相关论文
ZnO是一种新型的直接带隙宽带半导体，室温禁带宽度约为3.37eV，具有较大的激子束缚能(60meV)，可以实现室温紫外激光发射。作为新一代的......
学位
提出一种制作CVD金刚石厚膜焊接刀具的新工艺。采用电子辅助化学气相沉积法 (EACVD)制备直径10 0mm、厚度 0 8～ 1mm的金刚石厚膜 ;......
本文首先使用磁控溅射法在清洁的金刚石厚膜表面溅射Ti/Cu层,利用热的浓硫酸腐蚀表层的Cu和Ti层,获得具有合金TiC层的金刚石厚膜表......
通过实验分析了沉积温度、乙炔 -氧气流量配比对金刚石厚膜质量的影响及高质量金刚石厚膜的生长过程
The effects of deposition ......
研究了气体流量比 (O2 /C2 H2 )对燃焰法沉积金刚石厚膜的影响 ,并以约 5 0 μm /h的较高速率沉积出了均匀、致密呈淡黄色透明状的......
研究了衬底温度、核化密度、衬底表而预处理等工艺参数对微波等离子体化学气相沉积法在硅片上同时生长碳化硅和金刚石的影响.采用......
采用扩散焊与钎焊相结合的方法,用Ti箔和Ag-Cu箔共同做中间层材料,在一定的温度、压力和保温时间下,实现了气相沉积金刚石厚膜与硬......
用直流辉光等离子体化学气相沉积制备金刚石厚膜，用氢的微波等离子体对其抛光截面进行刻蚀，研究了晶界对金刚石厚膜耐磨性的影响.结......
运用ANSYS软件建立了三维轴对称有限元模型，对金刚石厚膜（φ40mm×1mm）内部和膜／钼基体界面处的热残余应力各个分量的分布作了全面......
采用直流辉光等离子体化学气相沉积金刚石厚膜，利用氢的微波等离子体对抛光的金刚石厚膜截面进行刻蚀，用扫描电子显微镜、激光拉曼光......
采用高功率直流电弧等离子体CVD工艺制备了不同厚度的无裂纹自支撑金刚石厚膜.实验中观察到在金刚石厚膜生长过程中出现了形貌不稳......
采用高功率直流电弧等离子体CVD工艺制备了不同厚度的金刚石自支撑膜。观察到在金刚石厚膜生长过程中出现形貌不稳定性，并往往导致......
利用直流热阴极辉光放电方法制备出了高品质金刚石厚膜,生长速率达到20μm/h,生长厚度达到3mm.为了解其工作特性、优化沉积工艺,本......
20多年来，CVD金刚石厚膜焊接工具和薄膜涂层工具的研究都已取得了十分显著的进展，关键性的技术问题已经基本解决，相关产品已经得到实......
与现有的金刚石膜抛光工艺相匹配的高效刻蚀技术，是目前研究的热点。自行研制的稀土化合物浆料对CVD金刚石厚膜进行了刻蚀研究，刻蚀......
在HFCVD系统中采用B2O3作为掺杂源制备了B掺杂CVD金刚石厚膜，利用X-射线衍射仪研究了B掺杂对CVD金刚石厚膜应力的影响。结果显示，B元......
由于化学气相沉积(Chemical Vapor Deposition,简称CVD)金刚石厚膜的加工极其困难,本文提出了一种金刚石厚膜精加工的新工艺,即通......
采用MPCVD法在钼基体上制备金刚石厚膜,测量了等离子体发射光谱,并利用XPS、Raman和SEM对金刚石厚膜进行表征。研究了Mo原子进入金......
根据金刚石厚膜的实际应用要求,建立了EA-CVD(Electron Assisted Chemical Vapor Deposition)方法,制备出直径为80 mm,膜厚为1 mm......
采用热阴极DC-PCVD(Direct Current Plasma Chemical Vapor Deposition)方法制备出大尺寸高质量的金刚石厚膜,研究了金刚石厚膜的......
建立和发展了非脉冲式的直流热阴极PCVD(Plasma Chemical Vapour Deposition)方法.通过采用温度为1100℃～1500℃的热阴极以及阴极和......
采用双辉等离子表面冶金技术在机械抛光后的金刚石厚膜表面制备钽涂层,研究了涂层的表面及截面形貌、微区成分、物相组成及结合性......
对金刚石厚膜和PCD复合片的显微组织进行了对比分析,用优化设计的金刚石厚膜和PCD端铣刀进行了切削试验,证明金刚石厚膜端铣刀可实......
CVD金刚石厚膜具有极高的硬度,良好的耐磨性以及较高的热导率,广泛应用于刀具、磨具等领域。但是由于金刚石具有很高的表面能和化......
高气压、大电流直流辉光等离子体化学气相沉积方法能够快速沉积高品质金刚石膜。然而，高气压下直流辉光放电和以往的低气压直流辉光......
采用热丝CVD方法,在Ф110mm的钼基体上,以丙酮为碳源,在高纯氢的作用下,成功地合成了高质量自支撑金刚石厚膜。X射线、SEM和拉曼光......
较粗糙的表面是影响金刚石厚膜广泛使用的因素之一.本文对CVD金刚石厚膜进行了机械抛光的正交实验研究.实验结果表明,影响抛光效率......
金刚石膜中的热应力会削弱金刚石薄膜与基底之间的粘结强度和金刚石膜的机械性能,更严重的会使CVD膜产生热裂纹甚至出现“炸膜”现......
在HFCVD系统中制备了直径为Ф100mm的自支撑CVD金刚石厚膜，利用XRD研究了自支撑CVD金刚石厚膜的应力。结果显示制备的大面积自支撑C......
用MWCVD方法在无预处理铜基体上获得了金刚石薄膜和厚膜.所得金刚石膜从基体上自动脱落,但形貌分析和Ramman分析表明,所得金刚石膜......
CVD金刚石厚膜具有极高的硬度,使得对其进行表面抛光极为困难.传统的机械抛光方法既不经济又耗费时间,而一些新的抛光技术又由于实......
通过用氢等离子体对微波等离子体化学气象沉积法在钼基体上制备的金刚石厚膜的成核面进行表面处理,并利用拉曼光谱、扫描电镜和X射......
采用微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)法制备了Φ60 mm的金刚石厚膜,通过对沉积过程和结果的观察发现,由于所用沉积气压较高,基片......
采用热丝化学气相沉积（HFCVD）设备与工艺，在直径为90mm的钨基体上，以丙酮为碳源，制备了（111）取向的大面积金刚石厚膜，厚膜平均厚度达到1．2mm......
金刚石膜是采用化学气相沉积的方法制备出来的一种全晶质多晶纯金刚石材料，是制造刀具的理想材料。本文对CVD金刚石涂层刀具与厚膜......
期刊
附着性能的高低是CVD金刚石膜应用的基本问题之一。本文讨论了气相沉积金刚石薄膜的生长机理，sp~2杂化碳的存在方式，织构生长的本质......
本文采用热丝化学气相沉积方法制备CVD金刚石厚膜,通过灯丝间距缩短为4mm，同时增加围挡，使得CVD金刚石厚膜的生长速度可达到7.5μm/h......
