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Fourier变换红外吸收光谱相关论文
高温退火处理下SiN_x薄膜组成及键合结构变化
采用等离子增强化学气相沉积法,以氨气和硅烷为反应气体,p型单晶硅为衬底,低温下(200℃)制备了非化学计量比氮化硅(SiNx)薄膜.在N2氛围......
期刊
SiN_x薄膜
Fourier变换红外吸收光谱
X射线光电子能谱
键合结构
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