【摘 要】
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PUREX流程中钚的还原反萃液1BP、2BP均含有还原剂二甲基羟胺（DMHAN）、单甲基肼（MMH）的硝酸溶液,在进入下一个工艺段之前,都需要将其中的还原剂二甲基羟胺（DMHAN）和支持还原剂单甲基
【机 构】
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中国原子能科学研究院放射化学研究所;
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PUREX流程中钚的还原反萃液1BP、2BP均含有还原剂二甲基羟胺（DMHAN）、单甲基肼（MMH）的硝酸溶液,在进入下一个工艺段之前,都需要将其中的还原剂二甲基羟胺（DMHAN）和支持还原剂单甲基肼（MMH）氧化破坏,同时氧化Pu（Ⅲ）至Pu（Ⅳ）。目前常用的两种方式是向1BP、2BP料液中加入NaNO2或通入N2O4,NaNO2、N2O4同DMHAN、MMH反应均为放热反应,且其反应放热量是设计氧化调价设备的重要参数之一。本文采用C80微量热仪测定了恒压恒温条件下HNO2氧化破坏DMHAN,MMH的表观放热量分别为-411.3 kJ/mol和-246.0 kJ/mol。采用NaNO2溶液氧化破坏溶液中的DMHAN和MMH,在NaNO2过量的条件下,计算了绝热状态下氧化1BP、2BP溶液理论升高温度分别为18.58℃、60.68℃。
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