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离子束溅射因为其优异的工艺稳定性，能够制备高质量性能优越的薄膜而越来越受到人们的关注，现已经成为制备高性能薄膜的重要手段。 本论文在室温条件下通过离子束溅射沉积技术在K9玻璃和和高纯的P型(100)晶面硅上制备透明均匀的TiO2非晶薄膜，采用X射线衍射仪(XRD)、紫外可见光光度计(UV-Vis)和光致发光光谱仪(PL)对所制备的薄膜进行了表征，对不同实验条件下制备的TiO2薄膜的光学特性，力学特性，结构特性和表面形貌进行了深入研究，并系统的分析了实验条件对TiO2薄膜特性的影响，以获得比较理想的制备条件。 研究结果表明:通过离子束溅射沉积技术可以制备超薄(20～80nm)、均匀(Ra=0.4～1nm)的非晶TiO2薄膜，其中薄膜的膜厚和透过率随着溅射压强和氧气流量的增大先变大再减小，随着溅射时间和束流电压的增大逐渐增大，随着氩气氧气流量比的减小先变大再减小，应力随束流电压的增大先增大再减小，随溅射压强的增大而增大，其他条件的变化恰好与膜厚的变化相反。薄膜经过400℃大气下退火4h，非晶的TiO2薄膜出现了微弱的结晶现象择优取向是TiO2的(002)晶面。对退火后的薄膜的光致发光特性进行表征，结晶效果的好坏和晶粒尺寸的大小是薄膜的发光强弱的主要影响因素。