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本文论述的是低温下合成纳米金刚石薄膜及其动力学研究。实验采用辉光等离子体辅助热丝CVD技术，并尝试在热丝与基片之间加入一个栅极，目的是降低基片温度，改变电场分布，用栅极模仿和制造一个电偶极层，研究其对金刚石低温沉积的影响。 实验中所用的基片为P型硅（100）单晶，气体为高纯甲烷（CH4）和高纯氢气（H2），对所合成的薄膜样品采用SEM、RAMAN光谱和X射线衍射检测和分析其成分及结构特性。 本文的工作可分为两部分：不加栅极和加栅极。不加栅极时，在衬底温度300℃＜Ts＜360℃的温度下合成了高品质的金刚石膜。加栅极时，在衬底温度200℃＜Ts＜280℃的温度下同样合成了金刚石薄膜，但伴随有类金刚石薄膜的产生。作者预计，加栅极对降低基片温度、合成高品质的金刚石薄膜是非常有潜力的一种新方法。