镁合金具有密度小、比强度和比刚度高、减震性好、电磁屏蔽性优良等特点,被广泛应用于汽车、电子通讯和航空航天等领域。但是由于其耐蚀性较差,使其应用受到限制。常规的化学氧化和阳极氧化等表面处理方法对镁合金表面虽有一定的保护作用,但其耐蚀性、外观质量等方面仍然不尽如人意。微弧氧化技术作为一种新兴的、绿色表面处理技术能够在镁合金表面形成硬度高、耐磨耐蚀性好的氧化膜层而得到广泛应用。本文以AZ51镁合金为研究对象,采用低交流电压微弧氧化技术,制备出致密性良好的氧化膜层,解决了传统微弧氧化技术存在的“处理时间长、膜层表面放电孔洞大”的问题。并在此条件下研究了工艺参数与膜层厚度之间的关系,对不同厚度的微弧氧化膜层进行微观形貌分析和耐蚀性分析,得到如下结论：(1)处理液浓度、输出电压、氧化时间、处理液温度与膜层厚度之间存在非线性关系；(2)膜层主要由MgO和MgFz组成,其最大致密层厚度为30μm。且膜层耐蚀性与致密层厚度呈正比,即当膜层厚度为30μm时,膜层均一致密,耐蚀性最好；(3)AZ51镁合金制备微弧氧化膜层的最优工艺参数为：氟化钾浓度1000g／L、氢氧化钾浓度360g／L、调压器输出电压80V、处理液温度40℃、处理时间110s。本研究成功制备了致密层厚度为30gm的AZ51镁合金微弧氧化膜层,处理时间为110s,该膜层的极化曲线证实其耐蚀性能优异。该研究为镁合金微弧氧化技术的应用做了基础研究。