各向异性刻蚀相关论文
最近,美国贝尔通讯公司的 Kash 等人第一次报导了电子空穴处于超一维限制状态的Ⅱ—Ⅴ族多量子阱结构的激发光谱。作者的样品用电......
中国科学院物理研究所／北京凝聚态物理国家实验室张广字研究组在石墨烯纳米结构图形化研究方面取得系列成果：发现一种石墨烯面内各向......
本文讨论了石英微机械陀螺的基本结构和工作原理,叙述了用于石英加工的化学各向异性刻蚀机理,给出了石英音叉传感器的加工方法,提......
采用溶胶-凝胶法（Sol-gel）制备了PZT压电薄膜，利用PZT的压电效应制作以PZT薄膜为驱动的V型阀微驱动器。针对微驱动器的关键结构驱动膜......
为了高效经济地实现单晶硅喷口阵列的批量加工,通过大量实验,研究了TMAH溶液在不同浓度、温度、刻蚀时间以及添加剂过硫酸铵的添加......
本发明公开了一种Mo基／TaN金属栅叠层结构的刻蚀方法，该方法先在半导体衬底上依次形成界面SiO2层、高K栅介质层、Mo基金属栅、TaN金......
文章介绍了微机械和微机电系统制造的一种重要方法-三维立体光刻技术方法的基本原理、加工技术及其应用.同时还介绍了立体光刻技术......
隧道硅尖的制备是微机械隧道传感器制作的一个重要组成部分,通过对ICP刻蚀和湿法各向异性刻蚀工艺制备硅尖实验的研究,得到了合适......
为了获得可靠的金属纳米尖的制作方法,设计了基于模板微电铸工艺制备金字塔型纳米Ni尖的工艺流程并进行了实验验证。利用(100)型单......
自剥离石墨烯技术成功发展以来,超薄二维纳米材料在物理学和化学领域的研究显著增加。这一独特类型的纳米材料展现出的空前性质被......
纳米硅尖在原子力学显微镜、微机械电子、光学研究、纳米级图形加工上具有广泛的用途。然而,如何制备小曲率半径高纵横比的硅尖仍......
固态纳米孔,特别是锥形(圆锥或方锥)固态纳米孔,是支撑第三代基因测序技术的重要平台之一,在仿生开关、离子晶体管等众多领域也拥......
介绍了硅湿法刻蚀的工作原理,分析了影响硅刻蚀均匀性的主要因素,重点阐述了在湿法腐蚀设备中提高硅刻蚀均匀性的方法。......
由于菲涅尔反射的存在，造成入射光在材料表面大量的被反射掉，影响光电器件的灵敏度及光利用率。表面抗反射结构是降低材料表面光反射......
为了提高单晶硅太阳电池的光电转换效率,采用了一种新型无毒碳酸钠强碱盐溶液对单晶硅表面进行腐蚀,制备类似金字塔绒面,降低硅片......
提出了一种先进的ICP Si深槽刻蚀工艺。在"Bosch"工艺的基础上加以改进,以SF6/O2作为刻蚀气体,C4F8作为侧壁钝化气体,通过在刻蚀过......
浅沟槽隔离技术是一种新的MOS集成电路隔离方法,它可以在全平坦的条件下消除局部氧化(LOCOS)技术的“鸟嘴”缺陷,绝缘层可以更厚,......
现阶段国内外对非极性ZnO的研究越来越受到关注,这是由于沿本征方向生长的ZnO会由于其自身结构而引起压电效应及自发极化效应,因此......
为了提高低浓度下四甲基氢氧化铵(TMAH)体硅刻蚀的质量,通过对质量分数为5%的TMAH进行研究,发现合适的过硫酸铵(AP)添加方式和添加......
针对石英晶体各向异性的特点,设计了一种驱动梁为双＂W＂截面形状的石英音叉微机械陀螺,通过在驱动梁表面凹槽两端设置深凹槽,有效提高......
研究目的是优化Ni掩模PMMA RIE的刻蚀参数,在氧刻蚀气体中加入表面钝化性气体CHF3,以较快的刻蚀速率获得垂直的侧壁和最小的掩模钻......
