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本文采用磁控溅射法制备生长了具有良好垂直磁各向异性(PMA)的TbFeCo非晶薄膜和Si/Ta/Pd/CFAS/MgO/Pd结构的磁性多层膜,并研究了溅射工艺和膜层结构设计与所制备PMA的关系。首先,搭建了一套可同时测量垂直磁化薄膜的磁光、磁电功能特性的磁光电一体化测试系统。其次,利用磁控溅射技术,采用FeCo靶和Tb片组合的复合镶嵌靶制备了具有PMA的TbFeCo薄膜。经过实验分析后发现,低的工作气压能够在更小的溅射功率下制备得到具有较高PMA的TbFeCo薄膜;当TbFeCo薄膜的膜厚在一定的范